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J-GLOBAL ID：200903044533518560
発熱体CVD装置
Inventor：
,
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
鈴木 正次 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000280221
Publication number (International publication number)：2002093723
Application date： Sep. 14, 2000
Publication date： Mar. 29, 2002
Summary：
【要約】【課題】 処理容器(真空室)内に導入された原料ガスを発熱体によって分解及び/又は活性化させ、処理容器(真空室)内に配置されている基板上に薄膜を堆積させる発熱体CVD装置において、発熱体の長寿命化と、発熱体の固定方法の改善が図られ、生産性の向上された発熱体CVD装置を提供する。【解決手段】 発熱体が電力供給機構に接続されている接続部及び/又は発熱体が支持体に支持されている支持部を、接続部、支持部との間に隙間を存在させて、かつ発熱体と接触すること無しにカバーで覆い、当該カバーと接続部、支持部との間の隙間にガスを導入できるガス導入機構を備えた発熱体CVD装置及び、前記接続部に備えられている発熱体挿入口に挿入された発熱体の端部が、当該発熱体挿入口内に備えられている金属製又はセラミック製のバネによって接続部に押し付けられることによって発熱体が接続部に取り付けられる発熱体CVD装置によって課題を解決した。
Claim (excerpt)：
内部に備えられている基板ホルダーに保持されている基板に対して薄膜形成処理がなされる処理容器と、当該処理容器に接続されていて処理容器内を真空に排気する排気系及び、処理容器内に原料ガスを供給する原料ガス供給系と、支持体に支持されて当該処理容器内に配置され、電力供給機構からの電力供給を受けて高温にされる発熱体とを備え、前記原料ガス供給系から処理容器内に導入された原料ガスが高温に維持された発熱体によって分解及び/又は活性化され、前記基板ホルダーに保持されている基板に薄膜が形成される発熱体CVD装置であって、前記発熱体が電力供給機構に接続されている接続部及び/又は前記発熱体が支持体に支持されている支持部には、接続部及び支持部との間に隙間を存在させ、かつ発熱体と接触すること無しにカバーが装着され、当該カバーと、接続部及び支持部との間の当該隙間に、ガスを導入するためのガス導入系が備えられていることを特徴とする発熱体CVD装置。
IPC (2)：
FI (2)：
H01L 21/205
, C23C 16/44 A
4K030EA06
, 4K030FA10
, 4K030KA24
, 5F045AA03
, 5F045AB02
, 5F045AB33
, 5F045AC01
, 5F045AC12
, 5F045BB08
, 5F045BB10
, 5F045DP03
, 5F045EB02
, 5F045EB03
, 5F045EE13
, 5F045EE14
, 5F045EF05
, 5F045EK07
, 5F045EK08
