ポジ型画像形成材料

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：小栗昌平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001005178
Publication number (International publication number)：2002214785
Application date： Jan. 12, 2001
Publication date： Jul. 31, 2002
Summary：

【要約】【課題】感光層の膜強度と保存安定性とに優れたポジ型画像形成材料を提供すること。【解決手段】α-ヘテロメチル構造を有する、特定のモノマーに相当する繰り返し単位を含有する樹脂を含有することを特徴とするポジ型画像形成材料。

Claim (excerpt)：

下記一般式(I)で表される構造を有するモノマーに相当する繰り返し単位を含有する樹脂を含有することを特徴とするポジ型画像形成材料。【化1】(一般式(I)中、Q1は、シアノ基(CN)、または式-COX2で表される基であり、X1とX2は、各々独立して、ヘテロ原子又はハロゲン原子を表す。Ra、Rbは、各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基又は有機残基を表す。また、X1とX2、RaとRb、X1とRaあるいはRbとが互いに結合して環状構造を形成してもよい。)

IPC (4)：

G03F 7/033 , C08F 20/00 , G03F 7/00 503 , G03F 7/039

FI (4)：

G03F 7/033 , C08F 20/00 , G03F 7/00 503 , G03F 7/039

F-Term (111)：

2H025AA11 , 2H025AA13 , 2H025AB03 , 2H025AB20 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BF08 , 2H025CB08 , 2H025CB41 , 2H025CB45 , 2H025FA10 , 2H025FA17 , 2H096AA06 , 2H096BA10 , 2H096BA11 , 2H096EA04 , 2H096EA23 , 2H096GA08 , 4J100AB02P , 4J100AB02Q , 4J100AB07P , 4J100AB07Q , 4J100AJ02P , 4J100AJ02Q , 4J100AJ02R , 4J100AJ02S , 4J100AJ03P , 4J100AL03R , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100AL24P , 4J100AL26P , 4J100AL29P , 4J100AL29Q , 4J100AL31P , 4J100AL31Q , 4J100AL31R , 4J100AL75P , 4J100AL75Q , 4J100AL75R , 4J100AM02P , 4J100AM02Q , 4J100AM02R , 4J100AM03P , 4J100AM15Q , 4J100AM15R , 4J100AM21P , 4J100AM21Q , 4J100AM21R , 4J100AM42R , 4J100AN02P , 4J100AP01P , 4J100AQ15P , 4J100AR09R , 4J100AR11R , 4J100AU26P , 4J100AU29P , 4J100AU35P , 4J100BA02P , 4J100BA02Q , 4J100BA02R , 4J100BA03P , 4J100BA03Q , 4J100BA03R , 4J100BA04P , 4J100BA10P , 4J100BA11Q , 4J100BA11R , 4J100BA12P , 4J100BA12Q , 4J100BA12R , 4J100BA15P , 4J100BA15R , 4J100BA16Q , 4J100BA29R , 4J100BA33Q , 4J100BA34P , 4J100BA35P , 4J100BA40P , 4J100BA51P , 4J100BA58P , 4J100BA58Q , 4J100BA58R , 4J100BB01P , 4J100BB03P , 4J100BB05P , 4J100BB07P , 4J100BC03R , 4J100BC04P , 4J100BC04Q , 4J100BC04R , 4J100BC08P , 4J100BC08R , 4J100BC09P , 4J100BC26P , 4J100BC26R , 4J100BC27P , 4J100BC43P , 4J100BC43Q , 4J100BC43R , 4J100BC53P , 4J100BC53Q , 4J100BC53R , 4J100BC65P , 4J100BC79P , 4J100BC83P , 4J100CA01 , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100CA06

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-074717 Applicant：ジェイエスアール株式会社
特開昭55-060509
レジスト組成物およびそれを用いたレジストパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-308587 Applicant：株式会社日本触媒

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