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J-GLOBAL ID:200903044582582451

レーザ照射装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 石原 勝
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994015230
Publication number (International publication number):1995226559
Application date: Feb. 09, 1994
Publication date: Aug. 22, 1995
Summary:
【要約】【目的】 ビームを所定の形状・大きさにした後でも均一なエネルギ強度分布を持ったレーザ光を照射する。【構成】 レーザ光源1と、レーザ光源1から出力されたレーザ光1aの位相を乱すフィルタ14及び/又は光ファイバと、レーザ光1aを小面積のビームに分解した後重ね合わせて所定の形状のビームに形成するビーム形成手段13とを備え、レーザ光1aの位相を乱すことによりビームを重ね合わせても回折格子を生じないようにした。
Claim (excerpt):
レーザ光源と、レーザ光源から出力されたレーザ光の位相を乱す位相攪乱手段と、レーザ光を小面積のビームに分解した後重ね合わせて所定の形状のビームに形成するビーム形成手段とを備えたことを特徴とするレーザ照射装置。
IPC (2):
H01S 3/10 ,  H01L 21/268

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