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J-GLOBAL ID:200903044583481039

蛍光潜像転写方法及びセキュリティパタ-ン形成体

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 細井 勇
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999251487
Publication number (International publication number):2000168243
Application date: Sep. 06, 1999
Publication date: Jun. 20, 2000
Summary:
【要約】 (修正有)【課題】 転写性及び階調性に優れた蛍光潜像を形成可能な蛍光潜像転写方法及び印画物を提供する。また、蛍光潜像の識別が容易に行えるセキュリティパターン形成体を提供する。【解決手段】 耐熱性基材フィルムの一方の面に、式(1)の蛍光剤を含有する樹脂バインダーから形成された蛍光インキ層が設けられている蛍光潜像転写フィルムを、蛍光インキ層と被転写体の被転写面とが接するように重ね合わせ、蛍光潜像転写フィルムの耐熱性基材フィルム側から発熱素子により加熱し、被転写体に蛍光潜像転写フィルムの蛍光インキ層を転写して、蛍光潜像を形成して印画物を得た。また、セキュリティパターンが蛍光材料層とその上方に紫外線吸収パターンとから構成されるものであり、受容層、紫外線吸収パターン及び蛍光材料層が転写層として形成された中間転写媒体を用い、被転写体の表面にセキュリティパターン形成体を得た。
Claim (excerpt):
耐熱性基材フィルム上に式(1)に記載の蛍光剤を含有する樹脂バインダーから形成された蛍光インキ層が設けられている蛍光潜像転写フィルムを被転写体に重ね合わせ、上記蛍光潜像転写フィルムの耐熱性基材フィルム側から発熱素子により任意のパターンに加熱し、被転写体に発熱素子のパターンに応じた蛍光潜像転写フィルムの蛍光インキ層を転写して、被転写体に蛍光剤からなる蛍光潜像を形成することを特徴とする蛍光潜像転写方法。【化1】
IPC (4):
B41M 5/30 ,  B41M 5/38 ,  B42D 15/10 501 ,  B42D 15/10 531
FI (4):
B41M 5/26 K ,  B42D 15/10 501 P ,  B42D 15/10 531 B ,  B41M 5/26 101 K
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (9)
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Cited by examiner (9)
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