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J-GLOBAL ID：200903044594764520
ベストフォーカス計測方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
大森 聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992264658
Publication number (International publication number)：1994120116
Application date： Oct. 02, 1992
Publication date： Apr. 28, 1994
Summary：
【要約】【目的】 感光基板のフォーカス位置を変化させずに露光を行うだけで投影光学系のベストフォーカス位置を計測する。【構成】 マスク17A上の第1パターン24及び第2パターン25をそれぞれ投影光学系19の光軸に対する主光線の傾斜角が異なる露光光IL1及びIL2で照明して、パターン24及び25の像を面27上の露光面に投影する。パターン24及び25の像の間隔D2を計測し、予め求めてある間隔D2とデフォーカス量ΔFとの関係よりそのデフォーカス量ΔFを求める。
Claim (excerpt)：
転写用のパターンが形成されたマスクを露光光で照明する照明光学系と、前記転写用のパターンの像を感光基板上に投影する投影光学系と、前記感光基板を載置して前記投影光学系の光軸方向に前記感光基板を位置決めする基板ステージとを有する投影露光装置の前記投影光学系の最良結像面の位置を求める方法において、前記マスクとして所定間隔で第1パターン及び第2パターンが形成されたマスクを使用して、前記第1パターン及び第2パターンをそれぞれ主光線の傾斜角が異なる露光光で照明し、前記第1パターン及び第2パターンの像を前記感光基板上に露光する第1工程と、前記第1パターン及び第2パターンの像の間隔を計測する第2工程と、該第2工程で計測された間隔並びにデフォーカス量と前記第1パターン及び第2パターンの像の間隔との関係より、前記第1パターン及び第2パターンの像を露光したときの前記感光基板の位置から前記投影光学系の最良結像面までの間隔及び方向を求める第3工程とを有する事を特徴とするベストフォーカス計測方法。
IPC (3)：
H01L 21/027
, G03B 27/32
, G03F 9/00
