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J-GLOBAL ID：200903044619379562

液処理槽および液処理装置

Inventor： 滝沢 芳治
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 高橋 明夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991224209
Publication number (International publication number)：1993062960
Application date： Sep. 04, 1991
Publication date： Mar. 12, 1993
Summary：

【要約】【目的】ガラス基板,シリコン基板の洗浄、ホトレジストの現像処理、剥離処理、および各種薄膜のエッチング処理などにおいて、その洗浄性能を向上させ、処理時間を短縮する。【構成】基板4を搬送して液処理をおこなう液処理槽において、前記基板4の上面に液を吐出する機能を有する整流板2を設けたことを特徴とする。【効果】基板表面での液流速を向上させることができ、洗浄においては、その洗浄性能を向上させることができる。また、現像,剥離,エッチングにおいては、処理時間を短縮することができる。さらに、処理時間を短縮できることにより、液処理槽内における基板の搬送距離を短くして、この種装置の小形化をはかることができる。

Claim (excerpt)：

基板を搬送して液処理をおこなう液処理槽において、前記基板の上面に液を吐出する機能を有する整流板を設けたことを特徴とする液処理槽。

IPC (3)：

H01L 21/304 341 ,  B08B 3/10 ,  G03F 7/30 501