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J-GLOBAL ID：200903044629026803
微細構造の形成方法、記録装置の製造方法及びエッチングマスク
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
逢坂 宏
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994204343
Publication number (International publication number)：1996051100
Application date： Aug. 05, 1994
Publication date： Feb. 20, 1996
Summary：
【要約】【構成】 被加工材(例えばガラス基板又はガラス層)14をRIEドライエッチングによって加工し、微細構造66を形成するに際し、前記被加工材に対するエッチングマスク79のエッチング選択比(エッチングマスク79に対する被加工材14のエッチング速度比)を12以上とする方法。【効果】 被加工材に対するエッチングマスクのエッチングレートが著しく低く、このため、エッチングマスクの厚みやエッチング条件に制限があっても、常に所望の形状の微細構造を容易かつ制御性よく形成することができる。
Claim (excerpt)：
被加工材をドライエッチングによって加工し、微細構造を形成するに際し、前記被加工材に対するエッチングマスクのエッチング選択比(エッチングマスクに対する被加工材のエッチング速度比)を12以上とする、微細構造の形成方法。
IPC (2)：
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