流体浄化装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：渡辺望稔 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000214264
Publication number (International publication number)：2002028649
Application date： Jul. 14, 2000
Publication date： Jan. 29, 2002
Summary：

【要約】【課題】高い濾過精度を維持したまま、処理対象となる流体の処理量を大幅に増大させることができ、かつ設置面積を大幅に減少させることが可能で、処理対象流体の処理量に応じた適切な処理能力の流体浄化装置を容易に実現可能とするとともに、流体浄化装置を構成するユニットを扱いやすくすること。【解決手段】多孔質セラミックフィルタを含む精密濾過装置を有するユニットを、複数個液密に接合して流体浄化装置を構成するようにした。上記ユニットには、殺菌装置および吸着浄化装置の少なくとも一方を加えてもよい。また、上記ユニット内の各装置を、ユニットから取り外し自在なカセットタイプとすることが好ましい。

Claim (excerpt)：

多孔質セラミックフィルタを用いて流体浄化を行う装置であって、前記多孔質セラミックフィルタを含む精密濾過装置を有するユニットを、複数個液密に接続して構成したことを特徴とする流体浄化装置。

IPC (15)：

C02F 1/44 , B01D 29/11 , B01D 29/50 , B01D 39/20 ZAB , B01D 61/18 , B01D 71/02 , C02F 1/28 , C02F 1/32 , C02F 1/50 510 , C02F 1/50 520 , C02F 1/50 531 , C02F 1/78 , C02F 9/00 502 , C02F 9/00 , C02F 9/00 503

FI (23)：

C02F 1/44 K , B01D 39/20 ZAB D , B01D 61/18 , B01D 71/02 , C02F 1/28 M , C02F 1/28 F , C02F 1/32 , C02F 1/50 510 A , C02F 1/50 520 L , C02F 1/50 531 R , C02F 1/78 , C02F 9/00 502 D , C02F 9/00 502 G , C02F 9/00 502 H , C02F 9/00 502 L , C02F 9/00 502 R , C02F 9/00 503 A , C02F 9/00 503 C , C02F 9/00 503 G , C02F 9/00 503 Z , B01D 29/10 510 E , B01D 29/10 530 A , B01D 29/24 B

F-Term (40)：

4D006GA06 , 4D006HA01 , 4D006KA01 , 4D006KB04 , 4D006KB12 , 4D006KB14 , 4D006KB30 , 4D006MA01 , 4D006PB07 , 4D006PB55 , 4D006PC55 , 4D019AA03 , 4D019BA05 , 4D019BB07 , 4D019BC12 , 4D019CA03 , 4D019CB03 , 4D024AA06 , 4D024AB07 , 4D024AB11 , 4D024AB13 , 4D024BA02 , 4D024BA07 , 4D024BB01 , 4D024BC01 , 4D024DB04 , 4D024DB05 , 4D024DB10 , 4D024DB24 , 4D037AA09 , 4D037AB03 , 4D037BA18 , 4D037CA12 , 4D050AA10 , 4D050AB06 , 4D050BB02 , 4D050BC09 , 4D050CA09 , 4D050CA12 , 4D050CA15

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