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J-GLOBAL ID:200903044656830002

多層回路基板の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 小鍜治 明 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992144021
Publication number (International publication number):1993343852
Application date: Jun. 04, 1992
Publication date: Dec. 24, 1993
Summary:
【要約】【目的】 導体パターンの線幅および線間を狭くでき、また低配線抵抗のパターン形成が可能であり、なお且つ多層化の容易な多層回路基板の製造方法を提供する。【構成】 第1の絶縁性基板の上面に導体パターンを形成する工程と、前記第1の絶縁性基板と前記導体パターンの上面に第2の絶縁性基板を配置し、一体化する工程と、前記第1の絶縁性基板と前記導体パターンと前記第2の絶縁性基板が一体化した基板を、第1の絶縁性基板と第2の絶縁性基板の接合面に垂直な面で切断する工程と、前記切断面を研磨する工程と、前記導体パターンの端面の露出している両面に導体パターンを形成する工程とを備える。
Claim (excerpt):
第1の絶縁性基板の主面上に複数の細線状の導電体を配列する工程と、前記第1の絶縁性基板の主面と前記導電体上に第2の絶縁性基板を配置し、一体化する工程と、前記第1の絶縁性基板と前記導電体と前記第2の絶縁性基板が一体化した基板を、前記細線状の導電体と垂直な面で切断する工程と、前記切断面を研磨する工程と、前記導電体の端面の露出している両面に導体パターンを形成する工程とを備えたことを特徴とする多層回路基板の製造方法。

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