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J-GLOBAL ID：200903044665200968

走査型露光装置及び露光方法

Inventor： 白数 廣
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (1)： 飯塚 雄二 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995289254
Publication number (International publication number)：1997106941
Application date： Oct. 11, 1995
Publication date： Apr. 22, 1997
Summary：

【要約】【課題】 大型の基板を分割して露光する場合のスループットを向上させるる。【解決手段】 マスク(12)と基板(16)とを露光光(32)に対して一体で走査して基板(16)のある領域を露光した後、マスク(12)を当該走査の方向と平行逆向きの方向にステップ移動させる。その後、マスク(12)と基板(16)とを再び一体で走査することによって、基板(16)の他の領域を露光する。

Claim (excerpt)：

所定のパターンが形成されたマスクと感光性の基板とを露光光に対して一体で走査し、前記パターンを前記基板に露光転写する露光方法において、前記マスクと前記基板とを第1方向に一体で走査することによって前記マスクのパターンを前記基板のある領域に露光する第1工程と;前記第1工程の後、前記マスクを前記第1方向と平行逆向きの第2方向に当該マスクの走査方向の幅に略等しい距離だけステップ移動させる第2工程と;前記第2工程の後、前記マスクと前記基板とを前記露光光に対して再び前記第1の方向に一体で走査することによって、前記パターンを前記基板の他の領域に露光する第3工程とを含むことを特徴とする露光方法。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (3)：

H01L 21/30 518 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 514 C