ネガ型レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：好宮幹夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002032380
Publication number (International publication number)：2003233185
Application date： Feb. 08, 2002
Publication date： Aug. 22, 2003
Summary：

【要約】【課題】高感度及び高解像度、露光余裕度、プロセス適応性を有し、露光後のパターン形状が良好であり、さらに優れたエッチング耐性を示すネガ型レジスト材料、特に化学増幅ネガ型レジスト材料を提供する。【解決手段】少なくとも、下記一般式(1)で示される繰り返し単位を有する、重量平均分子量が1,000〜500,000である高分子化合物を含むことを特徴とするネガ型レジスト材料。【化17】

Claim (excerpt)：

少なくとも、下記一般式(1)で示される繰り返し単位を有する、重量平均分子量が1,000〜500,000である高分子化合物を含むことを特徴とするネガ型レジスト材料。【化1】( 式中、R1、R2はそれぞれ独立して、水素、ヒドロキシ基、直鎖状または分岐状アルキル基、置換可アルコキシ基、ハロゲン原子を表し、R3は水素原子またはメチル基を表す。また、nは0または1から4の正の整数であり、mは0または1から5の正の整数である。pは0または正数であり、rは正数である。)

IPC (7)：

G03F 7/038 601 , C08F 12/22 , C08F 20/12 , C08F 32/08 , G03F 7/004 501 , G03F 7/033 , H01L 21/027

FI (7)：

G03F 7/038 601 , C08F 12/22 , C08F 20/12 , C08F 32/08 , G03F 7/004 501 , G03F 7/033 , H01L 21/30 502 R

F-Term (38)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA09 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC06 , 2H025AC08 , 2H025AD01 , 2H025BE00 , 2H025CB14 , 2H025CB17 , 2H025CB55 , 2H025CC03 , 2H025CC04 , 2H025CC20 , 2H025FA01 , 2H025FA03 , 2H025FA12 , 2H025FA17 , 4J100AB07Q , 4J100AL08R , 4J100AL09R , 4J100AL10R , 4J100AR10P , 4J100BA03Q , 4J100BA20Q , 4J100BB01R , 4J100BB03R , 4J100CA01 , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100CA31 , 4J100DA01 , 4J100HA08 , 4J100HC27 , 4J100HC45 , 4J100HE13 , 4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

感光性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-243643 Applicant：新日鐵化学株式会社
感光性樹脂
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-026662 Applicant：川崎製鉄株式会社
カラーフィルタ用感放射線性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-290547 Applicant：ジェイエスアール株式会社

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