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J-GLOBAL ID：200903044709891599

ESRFチャンバ冷却システム並びに方法

Inventor： ジョンソン、ウェイン・エル
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社
Agent (1)： 鈴江 武彦 (外4名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2000563849
Publication number (International publication number)：2002522212
Application date： Aug. 03, 1999
Publication date： Jul. 23, 2002
Summary：

【要約】【課題】【解決手段】静電的にシールドされた高周波(ESRF)プラズマ源を冷却するための方法とシステムとである。この方法とシステムとは、複数のリブを備え、クーラントを気化し、処理チューブもしくはバイアスシールドに蒸気を噴射させる静電シールドを利用している。蒸気は、リブの下側もしくは隣り合うリブ間で噴射される。このデザインは、誘導コイル間にアークを生じさせる気体を吸収できる液体クーラント浴を使用することを避けている。

Claim (excerpt)：

プラズマ処理システムを冷却するためのシステムであって、 処理チューブと、 気化されたクーラントを使用して前記処理チューブを冷却するように、処理チューブを囲んだシールドと、 液体クーラントが実質的に完全に気化されることを確実にするように、システム内の液体クーラントの流量を制御するための流量制御装置とを具備するシステム。

IPC (3)：

B01J 19/08 ,  C23C 16/50 ,  H05H 1/46

FI (3)：

B01J 19/08 E ,  C23C 16/50 ,  H05H 1/46 L

F-Term (13)：

4G075AA22 ,  4G075BC02 ,  4G075BC04 ,  4G075BC06 ,  4G075CA03 ,  4G075CA47 ,  4G075CA65 ,  4G075DA01 ,  4G075EA06 ,  4G075EB41 ,  4G075EE02 ,  4K030FA01 ,  4K030KA26