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J-GLOBAL ID:200903044710434509
気相香気成分の調合装置及び調合方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
小林 正明
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000308611
Publication number (International publication number):2002113339
Application date: Oct. 10, 2000
Publication date: Apr. 16, 2002
Summary:
【要約】【課題】 各種気相香気成分を気相状態で任意に、かつ定量的に混合できる、調合作業の簡易迅速化を図りうる香料用気相香気成分の調合装置及び調合方法の提供を目的とする。【解決手段】 気相香気成分を混合室において気相状態で混合し、調合するための装置において、該装置が不活性ガス供給装置と、不活性ガスをマスフローコントローラ及び電磁バルブを介して混合室に供給する流路と、不活性ガスをマスフローコントローラ、電磁バルブ及び不活性ガス注入管を介して試料瓶に供給し、試料瓶中の気相状態にある香気成分を不活性ガスと共に送出管及び電磁バルブを介して混合室に供給する流路を複数個備え、かつ各気相香気成分の撹拌混合用部材を備えた混合室が撹拌混合された混合ガスの排出口を備えている気相香気成分の調合装置、及び該装置を使用した調合方法。
Claim (excerpt):
気相香気成分を混合室において気相状態で混合し、調合するための装置において、該装置が不活性ガス供給装置と、不活性ガスをマスフローコントローラ及び電磁バルブを介して混合室に供給する流路と、不活性ガスをマスフローコントローラ、電磁バルブ及び不活性ガス注入管を介して試料瓶に供給し、試料瓶中の気相状態にある香気成分を不活性ガスと共に送出管及び電磁バルブを介して混合室に供給する流路を複数個備え、かつ各気相香気成分の撹拌混合用部材を備えた混合室が撹拌混合された混合ガスの排出口を備えていることを特徴とする気相香気成分の調合装置。
IPC (4):
B01F 3/02
, B01F 5/00
, B01F 15/02
, C11B 9/00
FI (4):
B01F 3/02
, B01F 5/00 D
, B01F 15/02 A
, C11B 9/00 Z
F-Term (10):
4G035AB02
, 4G035AC01
, 4G035AE02
, 4G035AE13
, 4G037AA01
, 4G037AA18
, 4G037EA01
, 4H059CA51
, 4H059CA97
, 4H059DA09
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
-
半導体用特殊材料ガス供給装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-315549
Applicant:三菱商事株式会社, 株式会社堀場製作所, 株式会社エステック
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