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J-GLOBAL ID：200903044728866821

線維描出方法および線維描出装置

Inventor： 増谷 佳孝 ,  阿部 修 ,  青木 茂樹 ,  椛沢 宏之
Applicant, Patent owner： ジーイー・メディカル・システムズ・グローバル・テクノロジー・カンパニー・エルエルシー ,  増谷 佳孝 ,  阿部 修 ,  青木 茂樹
Agent (1)： 有近 紳志郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002250628
Publication number (International publication number)：2004089224
Application date： Aug. 29, 2002
Publication date： Mar. 25, 2004
Summary：

【課題】特定の観察方向で線維密度が急に下がったように見えることを防止する。【解決手段】拡散テンソル法により収集したMR画像データ中に関心領域R1を設定し、関心領域R1内に規則的な格子点を設定し、格子点をランダム移動した点を追跡開始点S1,S2,...とし、画像データ中の各追跡開始点S1,S2,...で拡散テンソル解析を行って主軸ベクトルの方向を求め、主軸ベクトルの方向に沿った隣接点を選択しその隣接点で拡散テンソル解析を行って主軸ベクトルの方向を求めることを繰り返して線維を追跡し、追跡した各線維を所望の観察方向から見た如き画像を生成し表示する。【効果】観察方向を変えても、重なって並ぶ追跡開始点の数が同程度になるため、特定の観察方向で線維密度が急に下がったように見えることを防止できる。【選択図】図6

Claim (excerpt)：

MRI装置にて拡散テンソル法により収集した3次元画像データ中に関心領域または関心体積領域を設定し、前記関心領域または関心体積領域内に規則的な格子点を設定し、次いで2次元的または3次元的に格子点をランダム移動した点を追跡開始点とし、3次元画像データ中の各追跡開始点で拡散テンソル解析を行って主軸ベクトルの方向を求め、主軸ベクトルの方向に沿った隣接点を選択しその隣接点で拡散テンソル解析を行って主軸ベクトルの方向を求めることを繰り返して線維を追跡し、追跡した各線維を所望の観察方向から見た如き画像を生成し表示することを特徴とする線維描出方法。

IPC (3)：

A61B5/055 ,  G01R33/54 ,  G06T17/40

FI (3)：

A61B5/05 380 ,  G06T17/40 A ,  G01N24/02 530Y

F-Term (23)：

4C096AA17 ,  4C096AA20 ,  4C096AB50 ,  4C096AC01 ,  4C096AD14 ,  4C096AD25 ,  4C096BA18 ,  4C096BB22 ,  4C096BB25 ,  4C096DC14 ,  4C096DC21 ,  4C096DC28 ,  4C096DC35 ,  4C096DD07 ,  5B050AA02 ,  5B050BA03 ,  5B050BA04 ,  5B050DA02 ,  5B050EA07 ,  5B050EA27 ,  5B050EA28 ,  5B050FA02 ,  5B050FA05

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 拡散テンソルの拡散係数を表示する磁気共鳴装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-156770   Applicant：株式会社日立メディコ
• 撮像面決定方法およびMRI装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-204032   Applicant：ジーイー横河メディカルシステム株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 中枢神経のMRI