Pat
J-GLOBAL ID：200903044735611413

水溶性高分子化合物及びその製造方法、並びに使用済みプラスチックの再利用方法

Inventor：
渡辺 春夫

About 渡辺 春夫

, 
稲垣 靖史

About 稲垣 靖史

, 
野口 勉

About 野口 勉


Applicant, Patent owner：
ソニー株式会社

About ソニー株式会社


Agent (1)： 松隈 秀盛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000148766
Publication number (International publication number)：2001329022
Application date： May. 19, 2000
Publication date： Nov. 27, 2001
Summary：
【要約】【課題】 ポリスチレン系樹脂(廃材)から低分子量のポリスチレンスルホン酸塩を製造する。【解決手段】 ポリスチレン系樹脂(廃材)をスルホン化しオゾン処理することにより水溶性高分子化合物を製造することができる。ここで、ポリスチレン系樹脂は、スチレンユニットを20〜100モル%含有するものを用いる。得られた水溶性高分子化合物は、スルホン基がスチレンユニットに対して40〜200モル%含有されている。また、水溶性高分子化合物の分子量(Mw)は2000〜50000である。
Claim (excerpt)：
ポリスチレン系樹脂をスルホン化しオゾン処理することにより得られることを特徴とする水溶性高分子化合物。
IPC (4)：
C08F 8/36 ,  B01F 17/52 ,  C08J 11/16 ,  C08L 25:04
FI (4)：
C08F 8/36 ,  B01F 17/52 ,  C08J 11/16 ,  C08L 25:04
F-Term (43)：
4D077AA05 ,  4D077AB04 ,  4D077AB14 ,  4D077AB20 ,  4D077AC05 ,  4D077BA02 ,  4D077BA13 ,  4D077CA14 ,  4D077DD14X ,  4D077DD14Y ,  4D077DD17Y ,  4D077DD18Y ,  4D077DD22Y ,  4D077DD23Y ,  4D077DE04Y ,  4D077DE29Y ,  4F301AA15 ,  4F301AB02 ,  4F301CA09 ,  4F301CA23 ,  4F301CA53 ,  4J100AB02P ,  4J100AJ02Q ,  4J100AK31Q ,  4J100AK32Q ,  4J100AL03Q ,  4J100AM02Q ,  4J100AS02Q ,  4J100BA56H ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100CA31 ,  4J100DA01 ,  4J100DA38 ,  4J100HA01 ,  4J100HA61 ,  4J100HB08 ,  4J100HB52 ,  4J100HC71 ,  4J100JA03 ,  4J100JA09 ,  4J100JA13 ,  4J100JA67
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM