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J-GLOBAL ID：200903044740605634

荷電粒子ビ-ム出射方法及び加速器

Inventor： 平本 和夫 ,  廣田 淳一 ,  西 政嗣 ,  渡辺 洋之
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 作田 康夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999074960
Publication number (International publication number)：1999329800
Application date： Sep. 18, 1992
Publication date： Nov. 30, 1999
Summary：

【要約】【課題】荷電粒子ビームの電流値を必要とされる電流値に制御することができる荷電粒子ビーム出射方法及び加速器を提供することにある。【解決手段】高周波信号に基づいて高周波の電場又は磁場或いは電磁場を発生して荷電粒子ビームに印加する高周波印加装置14と、高周波印加装置14により共鳴の安定限界外に移動させられた荷電粒子ビームを出射する出射用デフレクター13と、出射用デフレクター13から出射された荷電粒子ビームの電流値を測定する電流計測装置33と、電流計測装置33により測定された電流値に応じて高周波信号の強度を決定する計算機34とを備える。

Claim (excerpt)：

荷電粒子ビームに高周波の電場又は磁場或いは電磁場を印加することにより加速器から荷電粒子ビームを出射する荷電粒子ビーム出射方法であって、前記加速器から出射された荷電粒子ビームの電流値を測定し、測定された電流値に応じて前記高周波の電場又は磁場或いは電磁場の強度を制御することを特徴とする荷電粒子ビーム出射方法。

IPC (3)：

H05H 13/04 ,  A61N 5/10 ,  H05H 7/10

FI (5)：

H05H 13/04 Q ,  H05H 13/04 G ,  H05H 13/04 N ,  A61N 5/10 H ,  H05H 7/10