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J-GLOBAL ID：200903044743565510

磁気ディスク基板およびその製造方法

Inventor： 後藤 直雪 ,  山口 勝彦
Applicant, Patent owner： 株式会社オハラ
Agent (1)： 坂本 徹 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994270647
Publication number (International publication number)：1996111024
Application date： Oct. 07, 1994
Publication date： Apr. 30, 1996
Summary：

【要約】【目的】 研磨後の表面粗度が15Å〜50Åの範囲内にあり、しかもこの範囲内で所望の表面粗度を容易に得ることができる結晶化ガラスからなる磁気ディスクを提供する。【構成】 結晶化ガラスの結晶相が二珪酸リチウム(Li2 O・2SiO2 )およびα-クオーツ(α-SiO2 )であって、該α-クオーツの成長結晶粒子がそれぞれ凝集した複数の粒子からなる球状粒子構造を有しており、該球状粒子は0.3μm〜3.0μmの範囲内の径を有する結晶化ガラスからなり、磁気ディスク基板の研磨してなる表面の粗度(Ra)が15Å〜50Åの範囲内にある磁気ディスク基板である。

Claim (excerpt)：

結晶化ガラスの結晶相が二珪酸リチウム(Li2 O・2SiO2 )およびα-クオーツ(α-SiO2 )であって、該α-クオーツの成長結晶粒子がそれぞれ凝集した複数の粒子からなる球状粒子構造を有しており、該球状粒子は0.3μm〜3.0μmの範囲内の径を有する結晶化ガラスからなり、磁気ディスク基板の研磨してなる表面の粗度(Ra)が15Å〜50Åの範囲内にあることを特徴とする磁気ディスク基板。

IPC (3)：

G11B 5/82 ,  C03B 32/02 ,  C03C 10/00