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J-GLOBAL ID：200903044775398860

微小領域応力測定のためのX線露光方法及び装置

Inventor： 川崎 宏一 ,  水谷 敏行
Applicant, Patent owner： 新日本製鐵株式会社
Agent (1)： 田北 嵩晴
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993124648
Publication number (International publication number)：1994317484
Application date： Apr. 30, 1993
Publication date： Nov. 15, 1994
Summary：

【要約】【目的】 多結晶材料の微小領域の応力測定のために不連続なX線回折アークが検出可能でかつ角度変化を精度良く検出できる方法及び装置を提供する。【構成】 X線2をスリット6及び前置スクリーン7を介して試料8上の微小領域に入射させ、試料8上の微小領域から反射したX線回折アーク11を、試料8へのX線2の入射角を数回変える毎に一枚の静止したイメージングプレート13に多重露光させる。【効果】 不連続なX線回折アークが検出可能で、かつ角度変化を精度良く読み取れ、多結晶材料の微小領域の応力測定が短時間で可能となる。

Claim (excerpt)：

X線をスリットおよび前置スクリーンを介して試料上の微小領域に入射させ、試料へのX線の入射角を変える毎に、該微小領域から反射したX線回折アークを後置スクリーンを介して、固定したイメージングプレート上の同一の測定領域に多重露光させることを特徴とする微小領域応力測定のためのX線露光方法。

IPC (3)：

G01L 1/25 ,  G01L 1/00 ,  G21K 1/00