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J-GLOBAL ID：200903044795964846

半導体製造装置及び半導体製造方法

Inventor： 大塚 洋司
Applicant, Patent owner： 九州日本電気株式会社
Agent (1)： 松浦 兼行
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999252702
Publication number (International publication number)：2001077035
Application date： Sep. 07, 1999
Publication date： Mar. 23, 2001
Summary：

【要約】【課題】 下部電極におけるシャワーヘッドの対向位置への分配を行う固定コイルの個体差、RF経路の部品の個体差等を吸収できず、実効パワーの差が発生するため、各ステーションで成膜される膜質のステーション間差が生じる。。【解決手段】 薄膜形成時に、低周波電源5により発生された低周波数信号は、コイル6及びコンデンサ7からなるローパスフィルタを通して下部電極1に供給され、イオンをウェハー3上の膜に叩き付けて膜の疎・密を決める役割をする。このとき、自動可変コイル16に流れる低周波数信号による電流は、対応する位置のステーションにおけるウェハー2に対するLF実効パワーに対応している。そこで、自動可変コイル制御機18は、複数の電流センサ17から入力される電流測定信号に基づいて、それぞれの電流値が一定になるように対応する自動可変コイル16のインダクタンスを、互いに独立にフィードバック制御する。

Claim (excerpt)：

処理チャンバ内に複数のシャワーヘッドが電極に離間対向して設けられ、前記複数のシャワーヘッドに高周波数信号を分配供給し、前記処理処理ガスが導入されているチャンバ内にプラズマを発生させると共に、前記電極に低周波数信号を供給して、前記電極上に載置された試料の表面に薄膜を形成する半導体製造装置において、前記複数のシャワーヘッドのそれぞれに対応して設けられ、前記電極から前記シャワーヘッドに流れる前記低周波数信号をグランドへ導くLFラインを形成するための複数の可変コイルと、前記高周波数信号を前記複数のシャワーヘッドに分配供給するために、該複数のシャワーヘッドのそれぞれに対応して設けられた可変コンデンサと、前記複数の可変コイルのそれぞれに対応して設けられ、該可変コイルに流れる電流を互いに独立に測定する複数の電流センサと、前記複数の電流センサからの各測定信号に基づいて、前記複数の可変コイルに流れる電流をそれぞれ一定とするように、前記複数の可変コイルのインダクタンスを互いに独立に制御する自動可変コイル制御機とを有することを特徴とする半導体製造装置。

IPC (2)：

H01L 21/205 ,  H01L 21/3065

FI (2)：

H01L 21/205 ,  H01L 21/302 C

F-Term (17)：

5F004AA01 ,  5F004BA09 ,  5F004BB13 ,  5F004BB19 ,  5F004BC08 ,  5F004BD04 ,  5F004CA03 ,  5F004CB07 ,  5F045AA08 ,  5F045BB01 ,  5F045DP18 ,  5F045EF05 ,  5F045EF08 ,  5F045EH05 ,  5F045EH14 ,  5F045EH20 ,  5F045GB08