角度分解分光器リソグラフィの特徴付けの方法および装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：稲葉良幸 , 大賀眞司 , 大貫敏史
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007158121
Publication number (International publication number)：2008042177
Application date： Jun. 15, 2007
Publication date： Feb. 21, 2008
Summary：

【課題】pおよびs偏光ビーム両方の測定にかかる時間を短縮する。【解決手段】基板Wの特性を求めるために、基板Wから回折した後、2本の直交的に偏光したビームの同時測定を実行する。直交する方向に偏光された放射を有する直線偏光光源P、Sは、一方が他方に対して90°回転した2つの非偏光ビームスプリッタを介して渡される。次に、組み合わせたビームは、基板Wで回折してから、非偏光ビームスプリッタを通して戻され、移相器およびウォラストンプリズム50を通過してから、CCDカメラCCDで測定される。この方法で、2つの偏光ビームの様々な位相段階で、位相および強度をこれによって測定することができ、ビームの偏光状態を求めることができる。移相器をゼロに変更する(つまり位相シフトがない)と、基板の回折格子は、そのパラメータが、同じ検出器システムでTEおよびTM偏光で同時に測定される。【選択図】図4

Claim (excerpt)：

基板の特性を測定するように構成された検査装置であって、放射ビームを供給するように構成された光源と、前記放射ビームを基板に集光させるように構成されたレンズと、前記放射ビームを基板の表面で反射した後に2つの直交的に偏光したサブビームに分離するように構成されたビームスプリッタと、直交的に偏光した両サブビームの角度分解スペクトルを同時に検出するように構成された検出器システムと、を備える検査装置。

IPC (5)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 , G01N 21/21 , G01B 11/00 , G01N 21/956

FI (5)：

H01L21/30 502V , G03F7/20 521 , G01N21/21 Z , G01B11/00 H , G01N21/956 A

F-Term (51)：

2F065AA01 , 2F065AA07 , 2F065AA14 , 2F065BB02 , 2F065CC19 , 2F065DD04 , 2F065FF49 , 2F065HH09 , 2F065HH13 , 2F065JJ03 , 2F065JJ05 , 2F065JJ09 , 2F065JJ26 , 2F065LL04 , 2F065LL30 , 2F065LL37 , 2F065LL46 , 2F065LL47 , 2F065MM03 , 2F065NN05 , 2F065PP12 , 2F065QQ03 , 2F065QQ17 , 2F065QQ23 , 2F065UU05 , 2F065UU07 , 2G051AA51 , 2G051AB20 , 2G051BB20 , 2G051CA04 , 2G051CB01 , 2G051CC20 , 2G051EA12 , 2G051EA14 , 2G051EA30 , 2G059AA03 , 2G059BB16 , 2G059EE02 , 2G059EE12 , 2G059FF01 , 2G059GG01 , 2G059HH03 , 2G059JJ11 , 2G059JJ12 , 2G059JJ19 , 2G059JJ22 , 2G059JJ30 , 2G059KK04 , 2G059MM01 , 2G059MM09 , 2G059MM10

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

角度分解した分光リソグラフィの特徴付けの方法および装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2005-235188 Applicant：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ
多数角度分光分析器
Gazette classification：公表公報 Application number：特願平7-504543 Applicant：サーマ-ウェイブ・インク

Return to Previous Page