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J-GLOBAL ID：200903044803801781

表示装置用基板の製法

Inventor： 山添 博司 ,  三田村 貞雄
Applicant, Patent owner： 松下電器産業株式会社
Agent (1)： 小鍜治 明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992301957
Publication number (International publication number)：1994148661
Application date： Nov. 12, 1992
Publication date： May. 27, 1994
Summary：

【要約】【目的】 本発明は、表示品位を向上させるための方法を提案するものである。【構成】 沃化水素酸で、ITO2を微細加工し、基板を加熱し、フォトレジスト3を縮ませ、さらに、紫外線を照射し、発生するオゾンにより、ITO2のレジスト3からの露出部を洗浄し、硫酸インジウムと硫酸ナトリウムを純水に溶解させた溶液で、インジウム電気鍍金4をITO上に形成する。次に、よく洗浄し、酸性の硫酸銅系の溶液で、この上に、銅5の電気鍍金を行い、さらに、金の無電界鍍金液により、この上に金層6を形成し、レジスト3を有機溶剤で剥離し、洗浄、乾燥させ、この後、基板を熱処理する。

Claim (excerpt)：

基板の主面全面に亘る透明電極の上に、所望の状態にパターン化されたレジスト膜を形成し、透明電極の腐食液で微細加工をし、洗浄し、次に前記レジスト膜を縮まらせ、透明電極の露出部をオゾンまたは酸素プラズマで清浄化し、透明電極の露出部にインジウム電界鍍金を施し、更に、この上に、銅単層電界鍍金または、金単層電界鍍金または、銅電界鍍金と金の電界または無電界鍍金の2層鍍金をこの順に施し、洗浄、乾燥させ、レジスト膜を除去、洗浄、乾燥させ、この後、熱処理することを特徴とする表示装置用基板の製法。

IPC (3)：

G02F 1/1343 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500