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J-GLOBAL ID：200903044832132244

異物検査装置および異物検査方法

Inventor： 羽根 博樹
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Agent (1)： 船橋 國則
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003409996
Publication number (International publication number)：2005175042
Application date： Dec. 09, 2003
Publication date： Jun. 30, 2005
Summary：

【課題】リソグラフィ工程で処理される被露光体の被露光面上における異物有無の検査を、当該被露光体の被露光面にダメージを与えることなく、正確でスループットよく行うことを可能にする。【解決手段】露光用マスクを用いてパターンが露光転写される被露光体7の被露光面7a上における異物有無を検査するための異物検査装置を、前記被露光面7aと平行にビーム13の照射を行うビーム照射手段11,12と、前記ビーム13の散乱光または遮光量を測定して前記被露光面7a上に存在する異物16を検出する異物検出手段14,15とを備えて構成するとともに、前記ビーム13の照射時における前記被露光面7aからの距離を前記露光用マスクと前記被露光面7aとのギャップ距離を基に設定する。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

露光用マスクを用いてパターンが露光転写される被露光体の被露光面上における異物有無を検査するための異物検査装置であって、 前記被露光面と平行にビームの照射を行うビーム照射手段と、 前記ビームの散乱光または遮光量を測定して前記被露光面上に存在する異物を検出する異物検出手段とを備えるとともに、 前記ビームの照射時における前記被露光面からの距離が前記露光用マスクと前記被露光面とのギャップ距離を基に設定されている ことを特徴とする異物検査装置。

IPC (5)：

H01L21/027 ,  G01N21/956 ,  G03F7/20 ,  H01J37/20 ,  H01J37/305

FI (5)：

H01L21/30 541S ,  G01N21/956 A ,  G03F7/20 521 ,  H01J37/20 Z ,  H01J37/305 B

F-Term (17)：

2G051AA56 ,  2G051AB01 ,  2G051BA10 ,  2G051BB09 ,  2G051BB11 ,  2G051CA03 ,  2G051CB05 ,  5C001AA02 ,  5C001AA07 ,  5C001AA08 ,  5C001CC06 ,  5C034BB06 ,  5C034BB10 ,  5F056AA22 ,  5F056AA25 ,  5F056CB35 ,  5F056FA05

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 特許第2951947号公報