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J-GLOBAL ID:200903044853705023
真空供給装置
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
千葉 剛宏 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995208012
Publication number (International publication number):1996066887
Application date: Sep. 10, 1991
Publication date: Mar. 12, 1996
Summary:
【要約】【目的】方向制御弁のパイロット弁方式を変更する際、なるべく少ない部品点数を交換するのみで簡単にパイロット弁方式が変更できる真空供給装置を提供することを目的とする。【構成】供給弁40を内蔵している弁機構部26は、その上部に第1、第2インタフェース27、28を挟んで電磁パイロット弁を有する電磁パイロット弁部29を有している。このインタフェース27、28を組み換えることにより、電磁パイロット弁部29と弁機構部26の接続する通路を変更することができる。したがって、供給弁40のパイロット弁方式を簡単に変更できる。
Claim (excerpt):
吸着用パッド等の作業機器に連通して物品の保持あるいは搬送等を行うための真空供給装置であって、圧力流体および負圧の供給および遮断を行う方向制御弁を有する弁機構部と、該方向制御弁の切換制御を行うパイロット弁を有するパイロット弁部と、前記弁機構部とパイロット弁部との間に装着され、前記弁機構部とパイロット弁部とを連通する流体通路を選択的に変更または遮断するプレートと、を備えることを特徴とする真空供給装置。
IPC (3):
B25J 15/06
, G05D 16/20
, B65H 3/08 350
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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