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J-GLOBAL ID：200903044890803337
干渉計システム、インタフェログラムの記録方法、ならびに目的表面を有する物体の提供および製造方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
特許業務法人池内・佐藤アンドパートナーズ
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2003508872
Publication number (International publication number)：2004530905
Application date： Jun. 26, 2002
Publication date： Oct. 07, 2004
Summary：
【構成】本発明は、基準表面と、物体表面を提供する物体の支持体と、基準および物体表面へ調整可能な周波数の放射線を出射するための放射線源と、位置放射線検出器と、放射線源によって出射される放射線の複数の種々の周波数を調整するための制御機構とを含む干渉計システムに関する。このシステムはまた、種々の周波数で放射線検出器に重ねられた干渉パターンの位置依存決定のためのインテグレータも含む。本発明はまた、インタフェログラムの記録方法、特定の表面を有する物体の提供方法およびその製造方法に関する。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
基準表面(23)と、
物体表面(5)を提供する物体(7)の支持体と、
前記基準表面(23)および前記物体表面(5)へ調整可能な周波数の放射線を出射する放射線源(9)と、
位置感知放射線検出器(31)とを含む干渉計システムであって、
前記放射線源(9)、前記基準表面(23)、前記支持体および前記放射線検出器(31)は、基準表面(23)から反射する基準波動場と前記物体表面(5)から反射する物体波動場とを重ねて、位置依存強度分布を有する干渉パターンを前記放射線検出器(31)に形成するように配置され、
前記基準表面(23)または/および前記物体表面(5)とともに前記放射線源(9)によって照射される妨害干渉表面(7)が設けられ、
前記干渉計システムは、前記放射線源(9)から出射される放射線の複数の異なる周波数(f、f+Δf、f-Δf)を設定するコントローラ(37、41)をさらに含み、異なる周波数で前記放射線検出器(31)に重ねられた干渉パターンを位置依存的に平均化するインテグレータ(33)を設けたことを特徴とする干渉計システム。
IPC (2)：
FI (2)：
F-Term (35)：
2F064AA09
, 2F064BB04
, 2F064CC01
, 2F064DD01
, 2F064DD08
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