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J-GLOBAL ID：200903044892913199

下水処理水の残留オゾン制御方法

Inventor： 和田 信行
Applicant, Patent owner： 株式会社明電舎
Agent (1)： 志賀 富士弥 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994264291
Publication number (International publication number)：1996117768
Application date： Oct. 28, 1994
Publication date： May. 14, 1996
Summary：

【要約】【目的】 下水2次処理水等の被処理水をオゾン処理するに際し、残留オゾン濃度の測定によって目標とする水質を確保し、且つ体系的に目標水質を設定する方法を確立することを目的とする。【構成】 被処理水3をオゾン接触槽2でオゾン発生機1で得られるオゾンガスを放散し、処理水槽7を介して下水再利用施設11に供給するようにしたシステムにおいて、下水再利用施設11の下流側から循環ポンプ13及び濾過器15を介して再利用水を処理水槽7に還流する一方、処理水槽7の残留オゾン濃度を測定してこの値が予め設定した所定の値を維持するように循環ポンプ13とオゾン発生機1の駆動制御を行う制御方法と、処理水槽7と再利用水供給点17での残留オゾン濃度を測定して循環ポンプ13の循環比を変更してオゾン処理水の水量調整を行うようにした下水処理水の残留オゾン制御方法を提供する。

Claim (excerpt)：

下水2次処理水等の被処理水をオゾン接触槽に流入し、オゾン発生機で得られるオゾンガスを被処理水中に放散して殺菌、脱臭及び脱色を行い、得られたオゾン処理水を処理水槽を介して各種アメニティ等下水再利用施設に再利用水として供給するようにしたシステムにおいて、上記下水再利用施設の下流側から循環ポンプ及び濾過器を介して再利用水を処理水槽に還流する一方、処理水槽の残留オゾン濃度を測定して、この測定データに基づいて処理水槽の残留オゾン濃度が予め設定した所定の値を維持するように循環ポンプとオゾン発生機の駆動制御を行うことを特徴とする下水処理水の残留オゾン制御方法。

IPC (10)：

C02F 1/78 ZAB ,  C01B 13/10 ,  C01B 13/11 ,  C02F 1/00 ZAB ,  C02F 1/00 ,  C02F 1/50 510 ,  C02F 1/50 520 ,  C02F 1/50 531 ,  C02F 1/50 540 ,  C02F 1/50 550