Pat
J-GLOBAL ID：200903044894028923
電子ビームテスタの電圧波形測定方法
安部 貴之
, About 安部 貴之
大窪 和生
, About 大窪 和生
伊藤 昭夫
About 伊藤 昭夫
Applicant, Patent owner：
富士通株式会社
About 富士通株式会社
Agent (1)： 石川 泰男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993186261
Publication number (International publication number)：1995045674
Application date： Jul. 28, 1993
Publication date： Feb. 14, 1995
Summary：
【要約】【目的】 電子ビームテスタにおいて、スライスレベルを適切に設定し、補正する方法及び収束係数を適切に設定し、評価する方法を提供する。【構成】 電子ビームテスタの電圧波形測定方法において、電圧波形測定中にSカーブの交点における収束係数(Sカーブの傾きの逆数、C1 ,C2 )に基づいてスライスレベルの補正量dSLを求め、補正量dSLに基づいてスライスレベルSL の補正を行う。また、Sカーブが飽和領域へ移行する遷移領域(遷移点)を検出し、その遷移領域(遷移点)を越えないようにスライスレベルの初期設定レベルを設定する。また、特定位相であるLOW位相レベル及びHIGH位相レベルでの収束係数に基づいて重み付き収束係数を求める。また、収束係数S/Nに基づいて収束係数を評価する。
Claim (excerpt)：
試料の測定点に電子ビームを照射し、照射点から放出される二次電子を検出し、二次電子信号量を電圧値に変換することによって、試料の測定点の電圧波形を測定する電子ビームテスタにおいて、二次電子のエネルギ分析器に印加する電圧を変化させることによって得られる測定点の電圧波形の各位相点での検出二次電子信号量の変化曲線(Sカーブ)とスライスレベル(SL )との交点を与える分析器印加電圧を求めることによって、二次電子信号量を電圧値に変換して、測定点の電圧波形とする電子ビームテスタの電圧波形測定方法において、前記変化曲線が飽和領域へ移行する遷移領域(遷移点)を検出し、その遷移領域(遷移点)を越えないようにスライスレベルの初期設定レベルを設定することを特徴とする電子ビームテスタの電圧波形測定方法。
IPC (3)：
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
-
特開平4-093676
-
特開昭63-156329
-
特開平4-093676
Copyright (c) 2009 Japan Science and Technology Agency. All Rights Reserved