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J-GLOBAL ID:200903044910427086
ガスバリアフィルム
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
石川 泰男
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001173355
Publication number (International publication number):2002361774
Application date: Jun. 08, 2001
Publication date: Dec. 18, 2002
Summary:
【要約】【課題】 本発明は、膜厚を所定の厚さに保ちつつ、極めて優れたガスバリア性を有し、さらに耐屈曲性および耐衝撃性を有するガスバリアフィルムを提供することを主目的とする。【解決手段】 本発明は、基材の片面または両面に、プラズマCVD法によって形成された酸化珪素膜を有するガスバリアフィルムであって、上記酸化珪素膜は、Si原子数100に対してO原子数180〜200の範囲内の成分割合であり、かつSi原子数100に対してC原子数40〜80の成分割合からなり、さらに1045〜1060cm-1の間にSi-O-Si伸縮振動に基づくIR吸収があり、かつ1274±8cm-1にSi-CH3伸縮振動に基づくIR吸収があることを特徴とするガスバリアフィルムを提供することにより上記目的を達成するものである。
Claim (excerpt):
基材の片面または両面に、プラズマCVD法によって形成された酸化珪素膜を有するガスバリアフィルムであって、前記酸化珪素膜は、Si原子数100に対してO原子数180〜200の範囲内の成分割合であり、かつSi原子数100に対してC原子数40〜80の成分割合からなり、さらに1045〜1060cm-1の間にSi-O-Si伸縮振動に基づくIR吸収があり、かつ1274±4cm-1にSi-CH3伸縮振動に基づくIR吸収があることを特徴とするガスバリアフィルム。
IPC (5):
B32B 9/00
, B32B 7/02 104
, B32B 27/00
, B65D 65/40
, C23C 16/40
FI (6):
B32B 9/00 A
, B32B 7/02 104
, B32B 27/00 H
, B32B 27/00 M
, B65D 65/40 F
, C23C 16/40
F-Term (37):
3E086AB01
, 3E086AD01
, 3E086AD02
, 3E086BA04
, 3E086BA12
, 3E086BA15
, 3E086BB02
, 3E086BB05
, 3E086CA01
, 3E086CA28
, 3E086CA31
, 4F100AA20B
, 4F100AT00A
, 4F100BA02
, 4F100BA03
, 4F100BA04
, 4F100BA10A
, 4F100BA10B
, 4F100BA10C
, 4F100BA10D
, 4F100EH66B
, 4F100GB16
, 4F100GB41
, 4F100JD02B
, 4F100JG01D
, 4F100JK10
, 4F100JL13C
, 4F100JN18B
, 4F100YY00B
, 4K030BA44
, 4K030CA07
, 4K030CA12
, 4K030DA08
, 4K030FA03
, 4K030JA01
, 4K030LA01
, 4K030LA11
Patent cited by the Patent:
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