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J-GLOBAL ID：200903044913288060

感光性組成物、パターン形成方法および着色膜の形成方法

Inventor： 伊藤 真穂 ,  中野 義彦 ,  可児 利佳子 ,  早瀬 修二
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995340696
Publication number (International publication number)：1997179305
Application date： Dec. 27, 1995
Publication date： Jul. 11, 1997
Summary：

【要約】【課題】 露光感度が高く、かつ断面形状が良好で、さらに解像性の優れた感光性組成物を提供するものである。【解決手段】 特定の単量体を繰り返し単位として有するポリシランと化学放射線によりラジカルまたは酸を発生する化合物をを含むことを特徴としている。

Claim (excerpt)：

下記化1に示す一般式(I)の単量体を繰り返し単位として有するポリシランと化学放射線の照射によりラジカルまたは酸を発生する化合物をを含むことを特徴とする感光性組成物。【化1】ただし、式中のR1 は置換もしくは非置換の芳香族基を示す。

IPC (4)：

G03F 7/075 521 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/40 521 ,  H01L 21/027

FI (4)：

G03F 7/075 521 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/40 521 ,  H01L 21/30 502 R