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J-GLOBAL ID:200903044929280833
気液混合装置及びこれを用いた汚水浄化装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
加藤 久
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996327084
Publication number (International publication number):1998165792
Application date: Dec. 06, 1996
Publication date: Jun. 23, 1998
Summary:
【要約】【解決手段】 汚水浄化装置として、汚染水域内の汚染水を汲み上げるポンプ2と、ポンプ2により汲み上げられた汚染水を貯留する加圧タンクTと、タンクTに酸素を含む気体を供給する気体供給手段9,10と、加圧タンク内の水面をコントロールする水面制御手段5,6,18と、加圧タンクTの水面上に汲み上げた汚染水を放出する汚染水放出手段4と、加圧タンクT内の水を汚染水域に放流する放流手段11,13とを備えている。【効果】 従来のようなエジェクタを必要としない比較的簡単な構造で、浄化能力に優れた小さな気泡を溶解させることができ、汚水の浄化効率を大幅に高めることができる。
Claim (excerpt):
液体流出入口を備えた加圧タンクと、同加圧タンクに気体を供給する気体供給手段と、同加圧タンク内の液面をコントロールする液面制御手段と、同加圧タンクの前記液面上に液体を放出する液体放出手段とを備えた気液混合装置。
IPC (4):
B01F 1/00
, B01F 5/18
, C02F 1/20
, C02F 1/24
FI (4):
B01F 1/00 A
, B01F 5/18
, C02F 1/20 A
, C02F 1/24 Z
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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特開昭60-068037
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微細気泡発生装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-250439
Applicant:株式会社エフ・テックス
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微細気泡排出装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-298923
Applicant:アイサワ工業株式会社, 森下化学工業株式会社
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加圧浮上装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-239727
Applicant:有限会社サンテクニクス
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