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J-GLOBAL ID:200903044935741923

リブ形成用感光性絶縁組成物、構造体及びリブの形成方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 秋元 輝雄
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997050250
Publication number (International publication number):1998188828
Application date: Mar. 05, 1997
Publication date: Jul. 21, 1998
Summary:
【要約】【課題】 サンドブラスト工法でリブを形成する際に、精度及び再現性向上と、微細化、高解像度化に対応できる技術工程の簡略化技術を提供する。【解決手段】 リブ形成用構造体200は、支持フィルム3/感光性絶縁層6/接着層5/保護フィルム4を積層した構造をなす。感光性絶縁層6は、従来の絶縁性材料に感光性材料を添加した組成物からなり、露光により感光性材料が硬化して耐サンドブラスト性を発現する。すなわち、リブ形状に硬化した感光性絶縁層6は優れた耐サンドブラスト性を発揮してサンド材では切削されないので、高い精度と再現性を確保することができ、微細で解像度の高いリブを製造することが可能となる。
Claim (excerpt):
絶縁性材料と、紫外線等の電磁波又はβ線等の粒子線の照射を受けて性状が変化する性質(粒子線照射による性状変化を含んでこの性質を感光性と云う)を有する材料との混合組成物であって、該混合組成物から形成される構造体の耐サンドブラスト性能が、前記照射により変化することを特徴とするリブ形成用感光性絶縁組成物。
IPC (6):
H01J 17/16 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 524 ,  G03F 7/42 ,  H01J 9/02 ,  H01J 11/02
FI (6):
H01J 17/16 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 524 ,  G03F 7/42 ,  H01J 9/02 F ,  H01J 11/02 Z
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (4)
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Cited by examiner (4)
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