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J-GLOBAL ID：200903044937720249
欠陥検査装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
大森 聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992254590
Publication number (International publication number)：1994109647
Application date： Sep. 24, 1992
Publication date： Apr. 22, 1994
Summary：
【要約】【目的】 被検体の観察領域を十分に大きな照度の照明光で照明すると共に、十分に小さい光学的ノイズで欠陥検査を行う。【構成】 半導体ウエハ1上の点状の照明領域48Aを照明する照明光学系(3,4,46,10)と、照明領域48Aのパターンをフーリエ変換するレンズ10と、そのフーリエ変換像から欠陥の無い場合のフーリエ変換成分を除去する空間フィルタ51と、空間フィルタ51を通過した光を逆フーリエ変換して欠陥像を結像するレンズ23と、欠陥像を受光する光検出器アレイ26とを有する。
Claim (excerpt)：
被検パターンの光学的なフーリエ変換像を形成する第1レンズと、前記フーリエ変換像を逆フーリエ変換する第2レンズとを有し、該第2レンズにより前記被検パターンの欠陥の像を投影する欠陥検査装置において、前記被検パターン上の点状又は線状の照明領域を照明する照明手段と、前記被検パターンの光学的なフーリエ変換像から前記被検パターンの欠陥の無い場合のフーリエ変換像に相当する成分を除去する光学的フィルタ手段と、前記第2レンズにより投影された前記被検パターンの欠陥の像を光電変換する光電検出手段と、前記被検パターンと前記照明手段とを相対的に変位させる相対走査手段と、を設けた事を特徴とする欠陥検査装置。
IPC (3)：
G01N 21/88
, G01B 11/24
, H01L 21/66
