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J-GLOBAL ID：200903044940746380

2層フレキシブル基板の製造方法

Inventor： 田宮 幸広 ,  佐伯 典之 ,  桜田 毅彦
Applicant, Patent owner： 住友金属鉱山株式会社
Agent (1)： 押田 良久
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996357876
Publication number (International publication number)：1998195668
Application date： Dec. 28, 1996
Publication date： Jul. 28, 1998
Summary：

【要約】【課題】 基板に乾式めっき法および無電解めっき法並びに電気銅めっき法を使用した2層フレキシブル配線板製造において、ピンホールによる配線部欠陥がなく、下地金属層と無電解めっき被膜との密着性の優れた健全な2層フレキシブル基板を提供する。【課題の解決手段】 絶縁体フィルムの片面または両面に、接着剤を介さずに直接下地金属層を形成し、該下地金属層上に所望の厚さの銅導体層を形成する2層フレキシブル基板の製造方法において、下地金属層をニッケル、銅-ニッケル合金、クロムおよびクロム酸化物からなる群から選ばれた少なくとも1種を用いて乾式めっき法により形成された被膜層と該被膜層上にさらに形成された乾式めっき法による銅被膜層によって形成し、次に該下地金属層上に一次電気銅めっき被膜層を形成した後、さらに該一次電気銅めっき被膜層上に中間金属層として無電解銅めっき被膜層を形成し、最後に該中間金属層上に二次電気銅めっき被膜層を形成することにより最終的に絶縁体フィルム上に5〜18μm銅導体層を形成することを特徴とする。

Claim (excerpt)：

絶縁体フィルムの片面または両面に、接着剤を介さずに直接下地金属層を形成し、該下地金属層上に所望の厚さの銅導体層を形成する2層フレキシブル基板の製造方法において、絶縁体フィルム上に下地金属層をニッケル、銅-ニッケル合金、クロム、クロム酸化物からなる群から選ばれた少なくとも1種を用い乾式めっき法により形成された被膜層と該被膜層上にさらに形成された乾式めっき法による銅被膜層によって形成し、次に該下地金属層上に一次電気銅めっき被膜層を形成した後、該一次電気銅めっき被膜層上に中間金属層として無電解銅めっき被膜層を形成し、最後に該中間金属層上に二次電気銅めっき被膜層を形成することにより最終的に絶縁体フィルム上に5〜18μmの厚さの銅導体層を形成することを特徴とする2層フレキシブル基板の製造方法。

IPC (7)：

C23C 18/31 ,  C23C 28/00 ,  C25D 7/00 ,  H05K 1/09 ,  H05K 3/00 ,  H05K 3/38 ,  C23C 14/06

FI (7)：

C23C 18/31 A ,  C23C 28/00 B ,  C25D 7/00 J ,  H05K 1/09 C ,  H05K 3/00 R ,  H05K 3/38 C ,  C23C 14/06 N