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J-GLOBAL ID：200903044949934635

ガス処理方法とそのシステム

Inventor： 大石 和城 ,  清家 聡
Applicant, Patent owner： 株式会社明電舎
Agent (1)： 橋本 剛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002343508
Publication number (International publication number)：2004174369
Application date： Nov. 27, 2002
Publication date： Jun. 24, 2004
Summary：

【課題】より低廉かつ効率的さらに安定した二酸化炭素の除去を実現すると共に、除去した二酸化炭素成分を有効的に利用する。【解決手段】ナトリウムイオンを透過する電解質膜10と、ナトリウム化合物の水溶液が供されるアノード11と、被処理ガスが供されるカソード12と、を備え、この両極間に直流電圧を印加してカソード12側においてガス中の二酸化炭素を炭酸塩の形態で分離除去するガス処理装置1と、ナトリウムイオンを透過する電解質膜を設置してアノード室とカソード室を形成すると共に、アノード室に前記炭酸塩の水溶液を供給する経路と、カソード室に水を供給する経路と、を備え、前記両室の液相間に直流電圧を印加してカソード室において水酸化ナトリウムを生成する再生槽5と、前記カソード室で生成した水酸化ナトリウムの水溶液をガス処理装置1に供給する経路と、を具備する。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

ナトリウムイオンを透過する電解質膜にアノードとカソードとを設け、アノードにはナトリウム化合物の水溶液を接触すると共に、カソードには被処理ガスを供し、この両極間に直流電圧を印加することにより、カソード側において前記ガス中の二酸化炭素を炭酸塩の形態で分離除去する工程と、 ナトリウムイオンを透過する電解質膜を介してアノード液相とカソード液相を形成し、アノード液相には前記炭酸塩の水溶液を供給すると共にカソード液相には水を供給し、この液相間に直流電圧を印加することにより、カソード液相において水酸化ナトリウムと水素ガスを生成する工程と、 この工程で得た水酸化ナトリウムの水溶液を前記ナトリウム化合物の水溶液として利用に供する工程とを有すること を特徴とするガス処理方法。

IPC (5)：

B01D53/62 ,  B01D53/14 ,  C25B1/02 ,  C25B1/16 ,  C25B9/00

FI (5)：

B01D53/34 135Z ,  B01D53/14 C ,  C25B1/02 ,  C25B1/16 ,  C25B9/00 Z

F-Term (21)：

4D002AA09 ,  4D002AC10 ,  4D002BA02 ,  4D002CA01 ,  4D002DA02 ,  4D020AA03 ,  4D020BA01 ,  4D020BB03 ,  4D020BC03 ,  4D020CB01 ,  4K021AA01 ,  4K021AB01 ,  4K021BA02 ,  4K021BA03 ,  4K021BA17 ,  4K021BB01 ,  4K021BB02 ,  4K021BC01 ,  4K021DB11 ,  4K021DB15 ,  4K021DB32