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J-GLOBAL ID：200903044951358064

ポリヘテロシロキサンの製造方法

Inventor： 小川 ▲琢▼哉 ,  鈴木 俊夫
Applicant, Patent owner： ダウ コーニング アジア株式会社
Agent (1)： 石田 敬 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995037044
Publication number (International publication number)：1995286045
Application date： Feb. 24, 1995
Publication date： Oct. 31, 1995
Summary：

【要約】【目的】 MO2 (MはTi又はZr)単位及びSiO2 単位を含む有機溶媒に可溶なポリヘテロシロキサンの製法を提供する。【構成】 カルボン酸類、フェノール類又はジケトンの存在下、式MA4 (MはTi又はZr;Aは加水分解性基)で示される化合物とSi(OR)4 (Rは炭化水素基又は金属原子)で示される化合物を加水分解・縮合し、次に式R1 SiX(R1 は水素又は炭化水素基;Xは加水分解性基)で示される有機シランを添加し、加水分解・縮合する。

Claim (excerpt)：

カルボン酸類、フェノール類及びジケトン類から選ばれた一種以上の化合物の存在下、次のa)又はb)の反応を進め、更に下記式(2)で示される有機シランを添加して加水分解・縮合させることを特徴とするポリヘテロシロキサンの製造方法。a)下記式(1)で示される金属化合物を部分的に加水分解・縮合を進めた後に溶媒可溶性シリケート類を添加して更に加水分解・縮合を進める反応。b)溶媒可溶性シリケート類を部分的に加水分解・縮合を進めた後に、下記式(1)で示される金属化合物を添加して共に加水分解・縮合を進める反応。(1) MA4(式中、Mはチタン原子又はジルコニウム原子を表し、Aはハロゲン基、アルコキシ基又はアシロキシ基を表す)(2) R1 3 SiX(式中、R1 はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、アリール基又は置換アリール基を表し、Xはヒドロキシ基、アルコキシ基、アシロキシ基、又はアシルアミド基を表す)

IPC (4)：

C08G 77/58 NUM ,  C08G 77/398 NUH ,  C08G 77/42 NUK ,  C08G 79/00 NUR