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J-GLOBAL ID：200903044975330861

無水ピロメリット酸製造用触媒および無水ピロメリット酸の製造方法

Inventor： 高橋 典 ,  川端 竜也 ,  奥野 政昭 ,  江本 泰久 ,  清岡 靖 ,  植田 健次
Applicant, Patent owner： 株式会社日本触媒
Agent (1)： 八田 幹雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994256313
Publication number (International publication number)：1995171393
Application date： Oct. 21, 1994
Publication date： Jul. 11, 1995
Summary：

【要約】【目的】 高い原料ガス濃度でかつ高収率で高純度の無水ピロメリット酸を得るための触媒および無水ピロメリット酸の製造方法を提供する。【構成】 触媒の構成元素としてバナジウムおよび銀を必須成分として含有しかつバナジウムに対する銀の原子比が0.001〜0.2の範囲であるテトラアルキルベンゼンを分子状酸素含有ガスにより気相酸化して無水ピロメリット酸を製造するための触媒および該触媒を使用する無水ピロメリット酸の製造方法。

Claim (excerpt)：

触媒の構成元素としてバナジウムおよび銀を必須成分として含有しかつバナジウムに対する銀の原子比が0.001〜0.2の範囲にあることを特徴とするテトラアルキルベンゼンを分子状酸素含有ガスにより気相酸化して無水ピロメリット酸を製造するための触媒。

IPC (4)：

B01J 23/68 ,  B01J 27/198 ,  C07D493/04 101 ,  C07B 61/00 300

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭55-154966
  
• 特開昭55-122787
  
• 特許第148803号