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J-GLOBAL ID：200903044977058379

キャリアエンベロープ位相を制御する方法および装置

Inventor： チャン ツェンウ ,  リ チェンカン ,  ムーン エリック
Applicant, Patent owner： カンザス ステイト ユニバーシティ リサーチ ファウンデーション
Agent (2)： 渡辺 望稔 ,  三和 晴子
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2009516713
Publication number (International publication number)：2009542009
Application date： Jun. 21, 2007
Publication date： Nov. 26, 2009
Summary：

チャープパルス増幅レーザーシステムである。システムは一般にレーザー源(12)、パルス変換装置(18)で分離距離だけ離れている第1および第2パルス変換要素を含むもの、位置決め要素(24s)、測定機器(22)、およびフィードバック制御器(26)から構成される。レーザー源(12)はレーザーパルスを発生させることができ、パルス変換装置はレーザーパルスの少なくとも一部を変換することができる。位置決め要素(24s)はパルス変換装置の少なくとも一部を再配置することができ分離距離を変える。測定機器(22)は発生したレーザーパルスのキャリアエンベロープ位相を測定することができ、さらにフィードバック制御器(26)は測定されたキャリアエンベロープ位相に基づいて位置決め要素を制御することができ、パルス変換要素の分離距離を変えかつレーザー源により発生されたレーザーパルスのキャリアエンベロープ位相を制御する。

Claim (excerpt)：

次のものから構成される、チャープパルス増幅レーザーシステム: レーザーパルスを発生することができるレーザー源; レーザーパルスの少なくとも一部を変換することができるパルス変換装置で、分離距離だけ離れた第1および第2パルス変換要素から構成されるパルス変換装置; パルス変換装置と一体となりかつ少なくともパルス変換装置の一部を再配置し分離距離を変えることができる位置決め要素; 発生したレーザーパルスのキャリアエンベロープ位相を測定することができる測定機器;および 位置決め要素および測定機器と一体となったフィードバック制御器で、位置決め要素をキャリアエンベロープ位相に基づいて制御することによりパルス変換要素間の分離距離を変化させかつレーザー源が発生した少なくとも1つのレーザーパルスのキャリアエンベロープ位相を制御することができるフィードバック制御器。

IPC (1)：

H01S 3/10

FI (1)：

H01S3/10 Z

F-Term (4)：

5F172AE06 ,  5F172AF07 ,  5F172NN16 ,  5F172NR05