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J-GLOBAL ID：200903044984879159

反応性ポリオルガノシロキサン

Inventor： 松井 二三雄 ,  村上 正敏 ,  魚谷 信夫 ,  伊藤 裕司
Applicant, Patent owner： 昭和電工株式会社
Agent (1)： 寺田 實
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993099661
Publication number (International publication number)：1994306173
Application date： Apr. 26, 1993
Publication date： Nov. 01, 1994
Summary：

【要約】【目的】 メチル基と架橋性反応基とを側鎖に有するラダーシリコーンを安定に製造することである。【構成】 側鎖有機基のうち、50〜99モル%がメチル基、1〜40モル%が架橋性反応基または架橋性反応基を置換基として有する有機基、残部が炭素数2〜6個のアルキル基、フェニル基、OH基、アルコキシ基であるポリメチルシルセスキオキサン構造を主たる構造単位とするポリオルガノシロキサンであって、Mnが500〜100,000 、且つ側鎖及び末端のOH基及びアルコキシ基が合計で一分子あたり4〜8個である反応性ポリオルガノシロキサン。

Claim (excerpt)：

全側鎖有機基のうち50〜99モル%がメチル基であり、1 〜40モル%が架橋性反応基または架橋性反応基を置換基として有する有機基であり、残余の基は炭素原子数2 〜6 個を有するアルキル基、置換もしくは非置換フェニル基、水酸基あるいはアルコキシ基であるポリメチルシルセスキオキサン構造を主たる構造単位とするポリオルガノシロキサンであって、数平均分子量500 〜100,000 、かつ側鎖及び末端の水酸基およびアルコキシ基が合計で一分子あたり4〜8 個であることを特徴とする反応性ポリオルガノシロキサン。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 特開昭62-197423