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J-GLOBAL ID：200903045014274676

アルミニウムディスクの研磨用組成物及びその研磨方法

Inventor：
河西 敏雄

About 河西 敏雄

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太田 勇夫

About 太田 勇夫

, 
西村 透

About 西村 透


Applicant, Patent owner：
日産化学工業株式会社

About 日産化学工業株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999025812
Publication number (International publication number)：2000219874
Application date： Feb. 03, 1999
Publication date： Aug. 08, 2000
Summary：
【要約】【課題】 高品質の研磨面を保ちながらしかも研磨速度を速くすることにより研磨工程の生産性の向上および低コスト化が可能な研磨用組成物とその研磨用組成物を用いる研磨方法を提供すること。【解決手段】 水、アルミナ研磨材及び研磨促進剤を含むアルミニウムディスクの研磨用組成物において、研磨促進剤が、Al(OH)X(NH2SO3)3-X(但し、Xは0.4〜2.0の実数を示す。)の化学組成で表示される塩基性スルファミン酸アルミニウムであることを特徴とするアルミニウムディスクの研磨用組成物を調製すること、及び該研磨用組成物を用いてアルミニウムディスクを研磨すること。
Claim (excerpt)：
水、アルミナ研磨材及び研磨促進剤を含むアルミニウムディスクの研磨用組成物において、研磨促進剤が、Al(OH)X(NH2SO3)3-X(但し、Xは0.4〜2.0の実数を示す。)の化学組成で表示される塩基性スルファミン酸アルミニウムであることを特徴とするアルミニウムディスクの研磨用組成物。
IPC (3)：
C09K 3/14 550 ,  C09K 3/14 ,  B24B 37/00
FI (3)：
C09K 3/14 550 D ,  C09K 3/14 550 Z ,  B24B 37/00 H
F-Term (7)：
3C058AA07 ,  3C058CA04 ,  3C058CB03 ,  3C058CB05 ,  3C058CB10 ,  3C058DA02 ,  3C058DA17
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)

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