Pat
J-GLOBAL ID:200903045017342923

高濃度汚水の処理装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998197892
Publication number (International publication number):2000024679
Application date: Jul. 14, 1998
Publication date: Jan. 25, 2000
Summary:
【要約】【課題】 原水中の窒素およびSSを除去でき、然も、ろ材の洗浄再生が容易な高濃度汚水の処理装置を得る。【解決手段】 脱窒槽1と硝化槽2を並列し、脱窒槽1の処理水を硝化槽2に供給し、硝化槽2の処理水の一部を脱窒槽1に返送するようにした循環式硝化脱窒装置において、硝化槽2に装入するろ材3を合成樹脂製の繊維材よりなる浮上性ろ材片として槽内にろ材層を形成し、このろ材層の下方に洗浄用散気管8aを配設したものである。上記ろ材3は汚水の接触面積が広く、強度を有して通水性が良好で、汚水処理に適合するとともに、洗浄再生も容易である。
Claim (excerpt):
脱窒槽1と硝化槽2を並列し、脱窒槽1の処理水を硝化槽2に供給し、硝化槽2の処理水の一部を脱窒槽1に返送するようにした循環式硝化脱窒装置において、硝化槽2に装入するろ材3を合成樹脂製の繊維材よりなる浮上性のろ材片として槽内にろ過層を形成し、このろ過層の下方に洗浄用散気管8aを配設してなる高濃度汚水の処理装置。
IPC (2):
C02F 3/10 ,  C02F 3/34 101
FI (2):
C02F 3/10 Z ,  C02F 3/34 101 D
F-Term (20):
4D003AA05 ,  4D003AB03 ,  4D003BA02 ,  4D003CA04 ,  4D003CA07 ,  4D003CA08 ,  4D003DA07 ,  4D003DA15 ,  4D003DA22 ,  4D003DA28 ,  4D003EA18 ,  4D003EA19 ,  4D003EA20 ,  4D003EA28 ,  4D003EA30 ,  4D003EA38 ,  4D003FA02 ,  4D003FA10 ,  4D040BB57 ,  4D040BB82
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (10)
  • 排水の処理装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平9-301360   Applicant:株式会社石垣
  • 有機性汚水の高度処理法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平5-241866   Applicant:株式会社クボタ
  • 濾過装置の洗浄方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平8-048238   Applicant:株式会社荏原製作所
Show all

Return to Previous Page