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J-GLOBAL ID：200903045032674959

光導波路の製造方法

Inventor： 竹谷 元 ,  吉新 喜市 ,  内川 英興
Applicant, Patent owner： 三菱電機株式会社
Agent (1)： 青山 葆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999047936
Publication number (International publication number)：2000249860
Application date： Feb. 25, 1999
Publication date： Sep. 14, 2000
Summary：

【要約】【課題】 高温の加熱処理を必要とせず、作業性に優れた石英系材料から作製される光導波路の製造方法を提供する。【解決手段】 オーバークラッド層をシリコンのアルコキシドを主原料とし高周波電極を用いるプラズマCVD法で形成するにあたり、アンダークラッド層及びコア部を有する基板を高周波電極に設置し、基板の自己バイアス電圧を-50V〜-400Vに制御して成膜し、加熱処理を行う。

Claim (excerpt)：

基板上に石英系材料を用いてアンダークラッド層と、該アンダークラッド層上にパターニングされた1又は2以上のコアからなるコア部と、該コア部を覆うオーバークラッド層とを順次形成する光導波路の製造方法において、上記オーバークラッド層をシリコンのアルコキシドを主原料とし高周波電極を用いるプラズマCVD法で形成するにあたり、アンダークラッド層及びコア部を有する上記基板を上記高周波電極に設置し、上記基板の自己バイアス電圧を-50V〜-400Vに制御して成膜し、加熱処理を行う光導波路の製造方法。

IPC (2)：

G02B 6/13 ,  C23C 16/505

FI (2)：

G02B 6/12 M ,  C23C 16/50 B

F-Term (23)：

2H047KA04 ,  2H047KB04 ,  2H047LA11 ,  2H047MA05 ,  2H047PA05 ,  2H047PA21 ,  2H047PA24 ,  2H047QA04 ,  2H047QA07 ,  2H047TA44 ,  4K030AA06 ,  4K030AA09 ,  4K030AA11 ,  4K030AA14 ,  4K030AA20 ,  4K030BA29 ,  4K030BA44 ,  4K030BB12 ,  4K030DA09 ,  4K030FA03 ,  4K030JA17 ,  4K030KA20 ,  4K030LA11