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J-GLOBAL ID：200903045033617177

水質監視制御システム

Inventor：
阿部 法光

About 阿部 法光

, 
村山 清一

About 村山 清一

, 
居安 巨太郎

About 居安 巨太郎

, 
環 省二郎

About 環 省二郎


Applicant, Patent owner：
株式会社東芝

About 株式会社東芝


Agent (3)： 大胡 典夫 ,  竹花 喜久男 ,  宇治 弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003152303
Publication number (International publication number)：2004351326
Application date： May. 29, 2003
Publication date： Dec. 16, 2004
Summary：
【課題】浄水場原水に含まれる溶存性有機物を吸着除去する活性炭注入と、塩素注入とを適切に制御することにより、浄水場原水に含まれる溶存性有機物質濃度が高い場合にも、浄水場出口での消毒副生成濃度及び塩素濃度とを適正に保つように、浄水工程の水質を監視し、制御する水質監視制御システムを提供すること。【解決手段】浄水場内に着水井1に流入する原水の蛍光強度を蛍光分析計22により測定し、その測定結果から溶存性有機物質濃度を推定しているので、これを除去する活性炭の注入量を適切に制御でき、かつ消毒副生成物の生成量を低く抑え、しかも所定の残留塩素濃度を維持できるように塩素注入率を適切に制御することができる。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
浄水場に流入する原水の蛍光強度を測定する蛍光強度測定手段、前記原水の流量を測定する原水流量測定手段、前記原水の水温測定手段及び前記原水の水質を測定する原水水質測定手段と、 測定された原水の蛍光強度と溶存性有機物質濃度との相関関係を表す演算式により原水内溶存性有機物質濃度を求める原水内溶存性有機物質濃度演算手段と、 処理水の溶存性有機物質濃度目標値と原水の水温、原水水質測定手段により測定されたpH及び浄水場内での塩素注入点に基づく塩素処理時間に基づき浄水場内の消毒副生成物濃度予測値を求める演算式により、浄水場内の消毒副生成物濃度予測値が予め設定した値以下となる処理水の溶存性有機物質濃度目標値を求める処理水溶存性有機物質濃度目標値演算手段と、 この求められた処理水溶存性有機物質濃度目標値と前記原水内溶存性有機物質濃度との差と前記原水流量により導出される粉末活性炭処理時間とを用いて原水への活性炭注入率を求める活性炭注入率演算手段と、 を備えたことを特徴とする水質監視制御システム。
IPC (5)：
C02F1/28 ,  C02F1/00 ,  C02F1/50 ,  C02F1/76 ,  G01N21/64
FI (16)：
C02F1/28 D ,  C02F1/00 K ,  C02F1/00 T ,  C02F1/00 V ,  C02F1/50 510A ,  C02F1/50 520C ,  C02F1/50 531M ,  C02F1/50 531P ,  C02F1/50 540B ,  C02F1/50 550C ,  C02F1/50 550H ,  C02F1/50 550L ,  C02F1/50 560B ,  C02F1/50 560Z ,  C02F1/76 A ,  G01N21/64 Z
F-Term (26)：
2G043AA01 ,  2G043BA14 ,  2G043CA03 ,  2G043DA05 ,  2G043EA01 ,  2G043NA01 ,  4D024AA01 ,  4D024AB04 ,  4D024BA02 ,  4D024BB01 ,  4D024DA01 ,  4D024DA03 ,  4D024DA04 ,  4D024DB03 ,  4D024DB21 ,  4D024DB30 ,  4D050AA03 ,  4D050AB06 ,  4D050BB04 ,  4D050BB06 ,  4D050BD03 ,  4D050BD06 ,  4D050BD08 ,  4D050CA06 ,  4D050CA15 ,  4D050CA16
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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