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J-GLOBAL ID：200903045049891430

荷電粒子ビーム露光方法、該方法を実行する装置、及び該方法に用いられる位置検出マーク形成体

Inventor：
小島 義克

About 小島 義克


Applicant, Patent owner：
日本電気株式会社

About 日本電気株式会社


Agent (1)： 五十嵐 省三
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995070875
Publication number (International publication number)：1996241855
Application date： Mar. 04, 1995
Publication date： Sep. 17, 1996
Summary：
【要約】【目的】 電子ビームによる走査回数を減らして検出時間の短縮し、また、高精度なマーク位置検出が可能にすること。【構成】 アパーチャマスク2の開口2aを通過した電子ビームEB1によりアパーチャマスク3のマーク検出用開口3bを照射し、3本の電子ビームEB2’を得る。これら3本の電子ビームEB2’を位置合わせマーク6bに一括に露光走査して位置合わせマークの数に応じた強度の反射電子信号を反射電子検出器11にて発生する。
Claim (excerpt)：
複数の荷電粒子ビーム(EB2’、EB2”)により位置合わせマーク(6b、6c、6d)を同時に露光走査させて該位置合わせマークを検出する荷電粒子ビーム露光方法。
IPC (4)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00
FI (5)：
H01L 21/30 541 K ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 541 S
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (9)
  • 特開昭59-184524
  • 特開昭62-147725
  • 特開昭58-056419
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