Pat
J-GLOBAL ID:200903045052387050
窒化物半導体発光ダイオード
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
豊栖 康弘 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000212932
Publication number (International publication number):2002033512
Application date: Jul. 13, 2000
Publication date: Jan. 31, 2002
Summary:
【要約】【課題】 ELOG成長基板のように低転位密度領域と高転位密度領域が交互に存在する基板を用いながら、十分な発光面積を有し、かつ、量子効率やリニアリティに優れた窒化物半導体発光ダイオードを提供すること。【解決手段】 低転位密度領域34と高転位密度領域32が短周期に交互に存在する窒化物半導体基板16を用いて、両方の領域が各々複数含まれるような大面積にLEDチップを形成し、p電極26の下側に設けた電流障壁層24により低転位密度領域34に電流を集中させる。電流障壁層24は、p電極26とショットキ接合するAlGaN等によって形成することができる。
Claim (excerpt):
基板上に、n型窒化物半導体層と、p型窒化物半導体層と、前記p型窒化物半導体層のほぼ全面に形成された金属電極とを有する窒化物半導体発光ダイオードにおいて、前記基板が、低転位密度領域と高転位密度領域が平面方向に交互に存在する窒化物半導体表面を有し、前記高転位密度領域の少なくとも一部の上方に、前記p型窒化物半導体層と前記金属電極の間に挟まれた電流障壁層を有することを特徴とする窒化物半導体発光ダイオード。
IPC (2):
FI (2):
H01L 33/00 C
, H01L 21/205
F-Term (33):
5F041AA03
, 5F041AA40
, 5F041CA02
, 5F041CA05
, 5F041CA08
, 5F041CA34
, 5F041CA35
, 5F041CA40
, 5F041CA46
, 5F041CA65
, 5F041CA67
, 5F041CA74
, 5F041CA82
, 5F041CA92
, 5F041CB36
, 5F041FF01
, 5F045AA04
, 5F045AB14
, 5F045AB17
, 5F045AC01
, 5F045AC08
, 5F045AC12
, 5F045AD14
, 5F045AF02
, 5F045AF04
, 5F045AF09
, 5F045BB12
, 5F045BB16
, 5F045CA10
, 5F045DA53
, 5F045DB02
, 5F045DB04
, 5F045DB06
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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転位線の伝搬方向の制御方法およびその用途
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-293049
Applicant:三菱電線工業株式会社
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GaN系半導体素子の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-064360
Applicant:豊田合成株式会社
-
窒化ガリウム系化合物半導体発光素子及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-038198
Applicant:シャープ株式会社
-
特開昭59-175776
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特開平4-042582
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