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J-GLOBAL ID：200903045071475025

光導波路の製造方法

Inventor： 室谷 裕志 ,  若木 守明
Applicant, Patent owner： 株式会社日本製鋼所 ,  若木 守明
Agent (1)： 曾我 道照 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992165021
Publication number (International publication number)：1994003544
Application date： Jun. 23, 1992
Publication date： Jan. 14, 1994
Summary：

【要約】【目的】 本発明は光導波路の製造方法に関し、特に、パターン装置等を用いることなく、レーザー光により直接光導波路を形成することを特徴とする。【構成】 本発明による光導波路の製造方法は、コンピュータ(2)に入力された設計データにより駆動されるレーザー光を酸化亜鉛膜(13a)に照射して光導波路を形成する方法である。

Claim (excerpt)：

コンピュータ(2)に入力された設計データに基づいて駆動されるレーザー光を酸化亜鉛膜(13a)に照射することにより光導波路を形成することを特徴とする光導波路の製造方法。