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J-GLOBAL ID：200903045097517311

レジスト用現像液組成物

Inventor： 佐藤 充 ,  田中 初幸 ,  中山 寿昌
Applicant, Patent owner： 東京応化工業株式会社
Agent (1)： 皿田 秀夫 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993291530
Publication number (International publication number)：1995128865
Application date： Oct. 28, 1993
Publication date： May. 19, 1995
Summary：

【要約】【目的】 良好なレジストパターンが得られるとともに、現像処理後の現像液の消泡性に極めて優れたレジスト用現像液組成物を提供する。【構成】 金属イオンを含まない有機塩基を主剤とするレジスト用現像液に、ポリオキシプロピレンモノアルキルエーテル、ポリプロピレングリコール及びポリオキシエチレンモノアルキルエーテルの中から選ばれる少なくとも一種を添加するように構成する。

Claim (excerpt)：

金属イオンを含まない有機塩基を主剤とするレジスト用現像液に、ポリオキシプロピレンモノアルキルエーテル、ポリプロピレングリコール及びポリオキシエチレンモノアルキルエーテルの中から選ばれる少なくとも一種を添加したことを特徴とするレジスト用現像液組成物。

IPC (2)：

G03F 7/32 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭62-133460
  
• 特開平1-257846
  
• 特開昭63-170640