化学的に増幅された電子線リソグラフィ用レジスト

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：山口巖
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998327951
Publication number (International publication number)：1999231542
Application date： Nov. 18, 1998
Publication date： Aug. 27, 1999
Summary：

【要約】【課題】公知のレジストと比べて改善された持続(遅延)時間挙動を示し、電子線リソグラフィに適した化学的に増幅されたレジストを提供する。【解決手段】酸触媒により分解可能の溶解を抑制する基を有するポリマー、電子線照射の際にpKa値≦2.5を有するスルホン酸を遊離させる光反応性化合物(光造酸物)、電子線に敏感な増感剤及び溶媒から成るレジストを製造する。

Claim (excerpt)：

酸触媒により分解可能の溶解を抑制する基を有するポリマー、電子線照射の際にpKa 値≦2.5を有するスルホン酸を遊離させる光反応性化合物(光造酸物)、電子線に敏感な増感剤、及び溶媒を含んでいることを特徴とする化学的に増幅された電子線リソグラフィ用レジスト。

IPC (3)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 503 , H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 503 A , H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

微細パターン形成材料及びパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-246324 Applicant：和光純薬工業株式会社, 松下電器産業株式会社
フオトリソグラフイによる構造物の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-353048 Applicant：シーメンスアクチエンゲゼルシヤフト
フォトレジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-278902 Applicant：住友化学工業株式会社

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