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J-GLOBAL ID：200903045196026656

レジスト組成物とレジストパターンの形成方法

Inventor： 開元 裕子 ,  野崎 耕司
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 井桁 貞一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991239871
Publication number (International publication number)：1993080515
Application date： Sep. 19, 1991
Publication date： Apr. 02, 1993
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】 レジストパターンの形成方法に関し、遠紫外光を光源として耐ドライエッチング性と解像性の優れた高感度のレジストパターンを形成する。【構成】 下式(1)で表される2-ノルボルネン-2- 置換体とアクリル酸系エステルとの共重合体と、光酸発生剤とからなることを特徴としてレジスト組成物を作り、このレジストを被処理基板上に被覆して選択露光を行い、ベークした後にアルカリ現像することを特徴としてレジストパターンを形成する。

Claim (excerpt)：

下記の一般式(1)で表される2-ノルボルネン-2- 置換体とアクリル酸系エステルとの共重合体と、光酸発生剤とからなることを特徴とするレジスト組成物。【化1】

IPC (6)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/029 ,  G03F 7/20 502 ,  H01L 21/027