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J-GLOBAL ID:200903045221170732

光重合性基を有するコポリマー、該コポリマー含有組成物及び該組成物による光ファイバーのクラッド形成法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 浅村 皓 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992165034
Publication number (International publication number):1993247142
Application date: Jun. 23, 1992
Publication date: Sep. 24, 1993
Summary:
【要約】 (修正有)【目的】 光ファイバー上に曇り或いは層分離を発生することなく非常に小さい屈折率のクラッドを生成させる光重合性組成物。【構成】 光重合開始性基とエチレン性不飽基の両基を有する光重合開始剤モノマー(たとえば式(1))とエチレン性不飽和基を有する弗素置換モノマー(たとえば式(2))とを反応させて得られたコポリマーに式(3)のジアクリレートを加えて光重合性溶液を得る。この溶液で光ファイバーを被覆し、硬化させて低屈折率のクラッドを生成させる。CH2 =CH-CO-OCH2CF2O(CF2CF2O)m (CF2O)n -CF2-CH2O-CO-CH=CH2 (3)のジアクリレートを加えて光重合性溶液を得る。この溶液で光ファイバーを被覆し、硬化させて低屈折率のクラッドを生成させる。
Claim (excerpt):
エチレン性不飽和基を持つ弗素置換モノマーに由来する繰り返し単位を有するコポリマーにして、該コポリマーが光重合開始性基とエチレン性不飽和基の両基を有する光重合開始剤モノマーに由来する繰り返し単位も有し、該光重合開始剤モノマー由来のこれら繰り返し単位がコポリマーにおいてペンダントの光重合開始性基をなしていることを特徴とする前記コポリマー。
IPC (5):
C08F220/22 MMT ,  C08F220/30 MML ,  G02B 6/00 361 ,  G02B 6/00 386 ,  G03F 7/027 501
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
  • 特開昭58-215411
  • 特開昭56-167139

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