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J-GLOBAL ID：200903045225742870

共重合体樹脂とその製造方法、この共重合体樹脂を含むフォトレジスト、および半導体素子

Inventor： 鄭 ▲みん▼鎬 ,  鄭 載昌 ,  卜 ▲ちょる▼圭 ,  白 基鎬
Applicant, Patent owner： 現代電子産業株式会社
Agent (1)： 荒船 博司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998365227
Publication number (International publication number)：1999255840
Application date： Dec. 22, 1998
Publication date： Sep. 21, 1999
Summary：

【要約】【課題】 悪臭問題を解決すると共に、優れた解像力を有する新しいタイプのフォトレジストを提供する。【解決手段】 モノメチル-シス-5-ノルボルネン-エンド-2、3-ジカルボキシレート単量体を含む原料から得られる下記一般式(1)で示される共重合体樹脂と、これを含有するフォトレジストである。【化1】(前記一般式(1)中、Rはt-ブチル基、ヒドロピラニル基、ヒドロフラニル基、またはエトキシエチル基を示し、x:y:zの比は(0.1〜99%):(0.1〜99%):(0.1〜99%)である。)

Claim (excerpt)：

分子量3,000〜100,000であり、モノメチル-シス-5-ノルボルネン-エンド-2、3-ジカルボキシレート単量体を含む原料から得られることを特徴とする下記一般式(1)で示される共重合体樹脂。【化1】(前記一般式(1)中、Rはt-ブチル基、ヒドロピラニル基、ヒドロフラニル基、またはエトキシエチル基を示し、x:y:zの比は(0.1〜99%):(0.1〜99%):(0.1〜99%)である。)

IPC (5)：

C08F222/06 ,  C08F277/00 ,  G03F 7/029 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (5)：

C08F222/06 ,  C08F277/00 ,  G03F 7/029 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R