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J-GLOBAL ID:200903045235068256
液晶表示素子の製造装置及びその方法
Inventor:
,
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
瀧野 秀雄 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992111445
Publication number (International publication number):1993307160
Application date: Apr. 30, 1992
Publication date: Nov. 19, 1993
Summary:
【要約】【目的】液晶セルの脱気,液晶の脱泡から液晶セルの注入孔の封止までの一連の各工程を、真空または不活性ガス置換された大気圧環境下においてインラインで行なうことができる手段を提供することを目的とする。【構成】液晶セルに液晶を注入する真空容器Bには、液晶セル脱気真空容器A、液晶脱泡真空容器C及び浸漬注入ステーションDとを夫々接続し、該浸漬注入ステーションDには、余剰液晶を除去する真空容器E及び封止する真空容器Fを設け、液晶皿の液晶の量を制御して真空容器Cに送る液晶皿回収ステーションGを備え、大型の液晶セル基板において品質の優れた液晶表示素子が得られる。
Claim (excerpt):
液晶セル内外の圧力差と毛細管現象を利用して液晶セル内に液晶を注入して液晶表示素子を形成する液晶表示素子の製造装置において、液晶セルに液晶を注入する液晶注入真空容器を設け、該液晶注入真空容器には、液晶セルを加熱脱気する液晶セル脱気真空容器、液晶を真空脱泡する液晶脱泡真空容器、液晶セルを液晶に浸漬させたまま放置する浸漬注入ステーションとを夫々接続し、且つ、該浸漬注入ステーションには、不活性ガス置換した大気圧下において、浸漬注入ステーションから受け渡された液晶セルと液晶皿とを分離し、余剰液晶を除去する余剰液晶除去容器と、液晶セルの液晶注入口を封止する封止容器とを設けると共に、前記分離された液晶皿の液晶の量を所定にして前記液晶脱泡真空容器に送る液晶皿回収ステーションを備え、液晶セルの加熱脱気、液晶の脱泡、液晶の注入、余剰液晶の除去及び注入孔の封止の各工程を真空環境下と不活性ガス置換した大気圧下においてインラインで行なうことを特徴とする液晶表示素子の製造装置。
IPC (2):
G02F 1/13 101
, G02F 1/1341
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